| 标准号： |
GB/T 19922-2005 |
| 英文名称： |
Standard test methods for measuring site flatness on silicon wafers by noncontact scanning |
| 中标分类： |
冶金>>元素半导体材料 |
| 发布日期： |
2005-09-19 |
| 发布单位： |
CN-GB |
| 标准状态： |
请与本站工作人员进行确认 |
| 实施日期： |
2006-04-01 |
| ICS分类： |
金属材料试验综合>>金属材料试验综合 |
| 起草单位/标准公告： |
洛阳单晶硅有限责任公司、中国有色金属工业标准计量研究所 |
| 正文语言： |
汉语 |
| 页数： |
10P.;A4 |
| 引用标准： |
GB/T 14264 ;ASTM F 1530-1994 |
| 内容提要（CN）： |
半导体;半导体材料;测量;硅;试验 |
| 内容提要（EN）： |
SEMICONDUCTORS;SEMICONDUCTOR MATERIALS;MEASUREMENT;MEASURING;MEASUREMENTS;SILICONE;SILICON;EXAMINATION;TEST;TRIALS;TESTING;REFRACTORY PRODUCTS;DEPOSIT;CRUDE OILS;TESTS;bristles |
| 归属： |
中国 |
