| 标准号： |
GB/T 30116-2013 |
| 英文名称： |
Requirements for semiconductor manufacturing facility electromagnetic compatibility |
| 中标分类： |
电子元器件与信息技术>>电子工业生产设备综合 |
| 发布日期： |
2013-12-17 |
| 发布单位： |
CN-GB |
| 标准状态： |
请与本站工作人员进行确认 |
| 实施日期： |
2014-04-15 |
| ICS分类： |
0>>0 |
| 起草单位/标准公告： |
工业和信息化部电子工业标准化研究院;安徽鑫阳电子有限公司 |
| 正文语言： |
汉语 |
| 页数： |
11P.;A4 |
| 引用标准： |
GB 9254;GB/T 17626.2-2006;GB/T 17626.3-2006;GB/T 17626.4-2008;GB/T 17626.5-2008;GB/T 17626.16-2007 |
| 内容提要（CN）： |
半导体;生产;半导体工艺;半导体器件;加工设备;电磁兼容;无线电干扰 |
| 内容提要（EN）： |
SEMICONDUCTORS;PRODUCE;PRODUCTION;SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY;SEMICONDUCTOR DEVICES;PRODUCTION EQUIPMENT;;RADIO DISTURBANCES;RADIO INTERFERENCES |
| 归属： |
中国 |
