| 标准号： |
GB/T 14849.4-2014 |
| 英文名称： |
Methods for chemical analysis of silicon metal.Part 4:Determination of impurity contents.Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method |
| 中标分类： |
冶金>>轻金属及其合金分析方法 |
| 发布日期： |
2014-12-05 |
| 发布单位： |
CN-GB |
| 标准状态： |
请与本站工作人员进行确认 |
| 实施日期： |
2015-08-01 |
| ICS分类： |
铝和铝合金>>铝和铝合金 |
| 起草单位/标准公告： |
昆明冶金研究院;中国铝业股份有限公司郑州研究院;昆明冶研新材料股份有限公司;云南出入境检验检疫局技术中心;通标标准技术服务有限公司;浙江合盛硅业有限公司;云南永昌硅业股份有限公司 |
| 正文语言： |
汉语 |
| 页数： |
13P.;A4 |
| 被代替标准： |
GB/T 14849.4-2008 |
| 引用标准： |
GB/T 6682;GB/T 8170 |
| 内容提要（CN）： |
工业;硅;化学分析和试验;电感;含量测定;等离子体;发射分光光度测定法;工业的 |
| 内容提要（EN）： |
INDUSTRIES;SILICON;SILICONE;CHEMICAL ANALYSIS AND TESTING;INDUCTANCE;CONTENT DETERMINATION;CONTENT DETERMINATIONS;DETERMINATION OF CONTENT;PLASMA;EMISSION SPECTROPHOTOMETRY;INDUSTRIAL |
| 归属： |
中国 |
