标准号: |
DIN 50453-2-1990 |
英文名称: |
Testing of materials for semiconductor technology; determination of etch rates of etching mixtures; silicium-dioxid coating; optical method |
中标分类: |
冶金>>元素半导体材料 |
发布日期: |
1990-10 |
发布单位: |
DE-DIN |
标准状态: |
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ICS分类: |
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正文语言: |
德语 |
原文名称: |
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie; Bestimmung der ?tzrate von ?tzmischungen; Siliciumdioxid-Schichten; Optisches Verfahren |
页数: |
2P.;A4 |
内容提要(CN): |
试验;材料;二氧化硅;半导体工程;腐蚀混合物;腐蚀速度;快速方法;蚀刻;材料试验;光学测量;光学试验;半导体工艺;混合物 |
内容提要(EN): |
optical tests;optical measurement;rapid method;semiconductor engineering;testing;materials testing;etching;etch mixtures;etch rates;mixtures;silicon dioxide;materials;semiconductor technology |
归属: |
德国 |