| 标准分类 Standards |
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| 中文名称：采用高质量分辨率辉光放电质谱仪测定电子级铝铜, 铝硅和铝铜硅合金中的痕量金属杂质的标准试验方法 |
| 标准号:ASTM F1845-2008(2016) |
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| 标准号： |
ASTM F1845-2008(2016) |
| 英文名称： |
Standard Test Method for Trace Metallic Impurities in Electronic Grade Aluminum-Copper, Aluminum-Silicon, and Aluminum-Copper-Silicon Alloys by High-Mass-Resolution Glow Discharge Mass Spectrometer |
| 中标分类： |
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| 发布日期： |
2008 |
| 发布单位： |
US-ASTM |
| 标准状态： |
请与本站工作人员进行确认 |
| 确认日期： |
2016 |
| ICS分类： |
导体材料>>导体材料 |
| 起草单位/标准公告： |
F01.17 |
| ***： |
Test |
| 页数： |
5P.;A4 |
| 内容提要（EN）： |
aluminum; aluminum-copper alloys; aluminum-copper-silicon alloys; aluminum-silicon alloys; electronics; glow discharge mass spectrometer (GDMS); purity analysis; sputtering target; trace metallic impurities; |
| 归属： |
美国 |
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