标准号: |
BS EN 62047-14-2012 |
英文名称: |
Semiconductor devices. Micro-electromechanical devices. Forming limit measuring method of metallic film materials |
中标分类: |
电工>>微型电机 |
发布日期: |
2012-05-31 |
发布单位: |
GB-BSI |
标准状态: |
请与本站工作人员进行确认 |
实施日期: |
2012-05-31 |
ICS分类: |
半导体器件综合>>半导体器件综合 |
起草单位/标准公告: |
BSI |
正文语言: |
英语 |
页数: |
22P;A4 |
采用关系: |
EN 62047-14-2012,IDT;IEC 62047-14-2012,IDT |
内容提要(CN): |
定义;电气工程;形状变化;成形力;成形法;材料特性;材料;金属膜;金属的;微电子学;微系统工艺;性能;半导体器件;系统工程;试验;厚度;薄膜;薄膜工艺 |
内容提要(EN): |
Definitions;Electrical engineering;Form changes;Forming forces;Forming method;Material behaviour;Materials;Metal films;Metallic;Microelectronics;Microsystem techniques;Properties;Semiconductor devices;System engineering;Testing;Thickness;Thin films;Thin-film technology |
归属: |
英国 |