| 标准号： |
IEC 62047-21-2014 |
| 英文名称： |
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 21: Test method for Poisson's ratio of thin film MEMS materials |
| 中标分类： |
电子元器件与信息技术>>半导体分立器件综合 |
| 发布日期： |
2014-06 |
| 发布单位： |
IX-IEC |
| 标准状态： |
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| ICS分类： |
半导体器件综合>>半导体器件综合 |
| 正文语言： |
双语(英,法) |
| 原文名称： |
Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 21: Prufverfahren zur Querkontraktionszahl von Dunnschichtwerkstoffen der Mikrosystemtechnik |
| 页数： |
26P.;A4 |
| 附注： |
History:IEC 62047-21 (2014-06);IEC 47F/185/FDIS (2014-03);IEC 47F/147A/CDV (2013-04);IEC 47F/127/CD (2012-08) |
| 被代替标准： |
IEC 47F/185/FDIS-2014 |
| 引用标准： |
ASTM E 132-2004;IEC 62047-8-2011 |
| 采用关系： |
DIN EN 62047-21-2015,IDT;BS EN 62047-21-2014,IDT;EN 62047-21-2014,IDT;NF C96-050-21-2014,IDT;PR NF C96-050-21,IDT;OEVE/OENORM EN 62047-21-2015,IDT;PN-EN 62047-21-2014,IDT;STN EN 62047-21-2015,IDT;CSN EN 62047-21-2015,IDT;DS/EN 62047-21-2014,IDT;NEN-EN-IEC 62047-21:2014 en-2014,IDT |
| 内容提要（EN）： |
Characteristics;Components;Definitions;Materials;Measurement;Measuring techniques;Microelectronics;Microsystem techniques;Poisson's ratio;Properties;Samples;Semiconductor devices;Single-axle;System engineering;Testing;Testing conditions;Thin films;Thin-film technology;Two-axles |
| 内容提要（QT）： |
Bauteil;Begriffe;Definition;Dunnschicht;Dunnschichttechnik;Eigenschaft;einachsig;Halbleiterbauelement;Merkmal;Messung;Messverfahren;Mikroelektronik;Mikrosystemtechnik;Poissonscher Beiwert;Poissonzahl;Probe;Prufbedingung;Prufung;Prufverfahren;Systemtechnik;Werkstoff;zweiachsig |
| 归属： |
国际 |
